国林科技：臭氧在半导体行业的应用范围主要包括薄膜沉积、湿法清洗、表面处理、氧化物生成等工艺制程

　　证券日报网讯 7月13日，国林科技在互动平台回答投资者提问时表示，臭氧在半导体行业的应用范围主要包括薄膜沉积、湿法清洗、表面处理、氧化物生成等工艺制程，权威股票配资，多空杠杆，股票配资平台，开户中心子公司国林半导体现有产品可以满足上述工艺制程的应用需求。子公司国林半导体现有产品包括：半导体级超纯臭氧气体发生器、臭氧气体输送系统、半导体级高浓度臭氧水系统、DI-NH3氨水输送系统、二氧化碳水发生器、臭氧水杀菌系统、臭氧气体尾气分解器、臭氧水分解器、臭氧气体浓度检测仪、臭氧水溶浓度检测仪等产品；详细产品技术信息请查阅子公司国林半导体官方网站进行了解，具体业务情况请关注公司定期报告。

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（文章来源：证券日报）股票投资市场

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